중국에서 자체 기술을 활용해 개발한 극자외선(EUV) 반도체 장비가 이르면 내년부터 본격적으로 상용화될 수 있다는 전망이 제시됐다. EUV 장비를 직접 설계하고 생산해 반도체 제조에 활용하는 것은 첨단 미세공정 분야에서 미국 정부의 기술 규제를 극복하는 데 중요한 성과로 꼽힌다. 12일 대만 경제일보와 WCCF테크 등 외신을 종합하면 화웨이는 이르면 하반기부터 자국에서 개발된 EUV 장비로 반도체 시범 생산을 시작할 계획을 두고 있다 (중략).

경제일보는 ASML의 EUV 반도체 장비가 10만 개 이상의 부품으로 이루어져 있다는 점을 고려한다면 중국이 실제로 이런 목표를 이뤄내기는 쉽지 않을 수 있다고 지적했다. 하지만 미국 정부가 중국을 상대로 한 반도체 규제를 완화할 가능성은 희박한 만큼 EUV 장비를 직접 개발해 활용하는 일이 사실상 유일한 선택지로 꼽힌다. 화웨이는 중국의 기술 경쟁력 강화에 필수로 꼽히는 인공지능 반도체의 성능을 끌어올리려는 목적으로 자국 기업의 관련 기술 개발을 지원하고 있다.

WCCF테크는 “중국이 자체 EUV 장비 상용화에 성공하면 화웨이는 애플 및 퀄컴과 기술 격차를 크게 줄일 수 있을 것”이라고 전했다.